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技術文章
TECHNICAL ARTICLES可控氣氛爐滿足于不同工藝實驗而特殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備。基本要求：1、氣氛爐需要保證爐子密封性，爐殼采用連續焊縫，爐門和門框接觸面進行機加工，所有孔洞都有密封裝置，設有前室和后室，火簾和防爆裝置。2、氣氛爐爐內氣氛要均勻分布，裝設循環風扇。3、爐襯，要求爐襯材料具有抗還原、抗滲碳能...
真空熱壓爐主要由爐體、爐門、加熱與保溫及測溫系統、真空系統、充氣系統、水冷系統、控制系統、液壓系統等組成。熱壓爐為周期作業式，廣泛應用于硬質合金、功能陶瓷、粉末冶金等在高溫、高真空條件下進行熱壓燒結處理，也可在充氣保護情況下熱壓成形燒結。真空熱壓爐可采用石墨加熱、鉬絲加熱，周期式工作，適用于金屬粉末、無機非金屬材料等子真空、高溫、熱壓下進行燒結，當然也可以再保護氣氛下進行燒結。從而完成材料的致密化，防止變形，還具有抑制納米粉末晶粒粗大的作用。爐體為立式爐殼，其內層為不銹鋼制成...
CVD技術主要使用的設備是化學氣相沉積爐，該設備主要應用于各種CVD實驗，也可用于真空燒結、真空氣氛保護燒結、納米材料制備、電池材料制備等多研究領域。化學氣相沉積是一種化工技術，該技術主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法。化學氣相淀積是近幾十年發展起來的制備無機材料的新技術。化學氣相淀積法已經廣泛用于提純物質、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態無機薄膜材料。這些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-...
高溫管式爐可開啟式高溫爐內膽輕質高溫纖維材料制作，有兩個半圓形爐體合成，開啟方便，可分為立式臥式，可安裝在爐架上，或根據需要將爐體安裝在其他工作臺面，爐體與控制器制成為一體化也可做為分體式。它具有多達32段升溫程序功能，只需開通電源設置程序，機器即自動工作，工作完畢自動關機；儀器操作方便，升溫速度快，升溫速度可調，外形輕巧。主要用途：廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業做粉末焙燒、陶瓷燒結、高溫實驗、材料處...
真空管式爐如果長時間不使用或者用的年數多了，難免會出現一些故障，下面簡單介紹一下真空爐常見的故障，與對應的處理方法。一、電器故障（一）溫度異常，包括溫度過高報警、或顯示溫度達不到設定值。（1）溫度過高報警故障解除方法：1．首先檢查所在工作區溫控器參數是否正常，參考其他正常使用中的溫控器校對所有參數。2．根據電路圖檢查相應工作區的固態繼電器輸出端是否被擊穿，具本方法：停電后，用萬用表電阻檔測量固態繼電器輸出端兩點之間的電阻，正常時，電阻會有幾兆歐以上，如果被擊穿，則幾乎沒有電阻...
氣氛燒結爐為石墨加熱、周期作業式，采用石墨管為發熱元件，適用于金屬材料、無機非金屬材料在真空或保護氣氛下進行燒結之用。也可用于光學材料的焙燒提純之用。1、窯爐內的還原氣氛不同的燃燒氣氛，會導致粘土中的鐵氧化物變價，使制品燒成后會產生各種顏色的制品。使燒成后磚瓦呈現紅色外觀的內在因素是三氧化二鐵；能決定外觀顏色的還有另外一個因素，就是焙燒階段的燃燒氣氛在起作用。低溫下的三氧化二鐵呈穩定的棕紅色。而在焙燒溫度（比如1000℃）不變、三氧化二鐵含量不變的情況下，高溫下的三氧化二鐵就...
壓力燒結爐適用于氮化硅、硬質合金等材料在高壓氮氣氣氛內進行燒結。有利于增加材料的燒結密度，提高材料的機械性能。燒結爐具有優良的組織結構、強度和密度。可以實現連續差壓脫脂、真空燒結和加壓燒結工藝;具有氣氛調節功能，爐內氣氛穩定，產品質量易于控制;爐內分壓控制，實現恒壓燒結。為了保證粉末壓坯在燒結過程中的脫蠟（潤滑劑或成形劑）、還原、合金化、組織轉變等順利進行，燒結時需要對燒結溫度、保護氣氛、壓坯傳送方式、加熱和冷卻速度等進行控制。因此，燒結爐在結構上應滿足以下要求：(1)具有完...
CVD管式爐由管式爐+真空系統+供氣系統組成，大溫度可以達到1200度，可以是單溫區、雙溫區、三溫區等，真空可以達到10-3Pa，供氣系統是流量調節可以是質子流量計或浮子流量計，混氣路數可以是2路、3路、4路、5路相混合。CVD管式爐產品特點：1、控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。2、氣路快速連接法蘭結構采用本公司知識產權設計,提高操作便捷性。3、中真空系統具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統采用高壓強，耐沖擊分子...
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